说到特殊的阴极硬质涂层技术，则不得不提起倒圆柱形阴极配置的好处了。与平面或共焦配置相比，倒置圆柱形阴极配置由于其高度独特的设计而具有一些显着的优势。与阴极向下、向上或穿过腔室的大多数阴极布置不同，倒置的圆柱...
普科新闻
2021-12-09
一种特殊的阴极硬质涂层技术
2021-12-03
如何在蒸发镀膜过程中控制溅射缺陷
溅射缺陷是在蒸发镀膜过程中和铟凸点沉积中确保厚度均匀性和生产效率的一大障碍。有多种方法可以调整镀膜工艺以消除喷溅缺陷并提高产量，找到合适的真空镀膜加工设计中解决了这些缺陷的合作伙伴合作，随着合作时间的推移，...
2021-12-02
如何提高钨涂层的膜层附着力
如何提高钨涂层的膜层附着力？钨涂层常见于半导体应用，并可用于新兴的太阳能应用。在这些应用中，薄膜通常会受到高应力和低附着力的影响，但是有些真空镀膜加工厂商尝试补偿应力时，反倒会导致电阻率增加。为了以高产量实...
2021-11-26
显示器/屏对真空镀膜有哪些要求
随着电子产品制造商希望向客户推出更好的新功能，并能够延长电子产品的寿命，与此同时，显示器/屏对真空镀膜的要求也开始发生变化。除了耐用性和使用性能之外，对柔韧性和超薄涂层的需求现如今也越来越大。 新兴的显示...
2021-11-25
什么是镀膜前的离子束刻蚀技术
离子束蚀刻技术 (IBE) 是一种薄膜技术，它是一种利用离子源在基板上进行材料去除的工艺。IBE 是一种离子束溅射，无论是用于镀膜前的预清洁还是图案蚀刻，它都能够确保所镀制膜层拥有出色的附着力和其3D结构的精确形成。 ...
2021-11-19
离子束蚀刻有哪些技术
离子束蚀刻（一种干蚀刻），即使用离子源从镀膜基板上去除材料。此过程可用于创建器件组件和纳米结构，例如在集成电路涂层和其他半导体涂层应用中。为了实现高产量并满足性能要求，人们需要用到不同的蚀刻技术。目前市场上...
2021-11-18
什么是离子束延迟涂层工艺？
什么是离子束延迟涂层工艺？离子束延迟涂层工艺是使用离子束蚀刻技术从衬底上一次一层地去除材料。延迟工艺的主要目的是以暴露缺陷位置的方式去除材料，可以将缺陷位置埋在涂层下。 随着半导体器件节点越来越小...
2021-11-08
硼化物、氮化物、类金刚石涂层抗黏附性测试
本文记录硼化物、氮化物、类金刚石涂层抗黏附性对比测试。 实验方法 PC放置在不同涂层的金属基体上，硬质合金块覆盖在PC上。采用硬质合金块覆盖有两点：（1）有利于判断高温处理后PC的粘着方式;（2）PC高温熔化后易...
2021-10-29
溅射镀膜中共聚焦阴极放置的好处
在溅射镀膜过程中，有几种不同的阴极放置方法，具体选择需要取决于想要使用溅射工艺实现什么样的膜层。将阴极与基板共焦定位是在薄膜沉积过程中共溅射多种材料常用的一种方法。 溅射镀膜阴极放置方法 其中阴极或...
2021-10-29
溅射镀膜过程中平面阴极放置的好处
在溅射镀膜过程中，有一种放置阴极的方法，那就是平面配置，即阴极直接安装在基板上方。这是对膜层性能起决定性作用的一种方法。 溅射镀膜平面阴极放置的好处 当您在薄膜沉积过程中将阴极直接安装在基板上方时...