运用非均衡磁控溅射技术在不銹钢及Sip（111）基材上制作了含氢无定形碳（a-C:H）薄膜，沉积的薄膜表层平滑，硬度标准高，内应力小，膜/基结合性好。运用球-盘磨擦实验机对薄膜在不一样真空度（1.0×105、5.0×10-2、1.0×10-2...
普科新闻
2022-04-12
a-C:H膜在不同真空度下的摩擦学
2022-04-12
喷嘴结构对真空喷射雾化性能影响
喷嘴是喷射发生元件，将液体负压能转化为动压能并保持稳定的流动性驱动力特性，普遍用以重型燃气轮机、发动机和喷漆机等。喷嘴构造对喷射有主要的影响，创建喷嘴构造主要参数与喷射雾化特点相互关系、从而优化并制定新型高...
2022-04-06
摩擦条件对掺钨DLC膜摩擦磨损性能的影响
运用SEM、AES、XRD、Raman谱仪、纳米材料压痕仪、划痕仪和球-盘损坏实验机对掺钨DLC膜的微观经济构造和摩擦学特性展开了研究分析，结果进行显示：掺钨DLC膜平滑高密度，具备这些纳米晶碳化钨和非晶碳构成的复相结构；其坚...
2022-04-06
等离子体辅助ITO薄膜低温生长
用基片加温和最后高温处理的方式 使ITO薄膜结晶和更改其架构来减少电阻的方式 ,现已被普遍使用于在安全玻璃等基体上制作ITO薄膜.但是伴随着不耐热的柔性基体的普遍应用,ITO薄膜低温环境生长现已变成一个主要的研究内容.因...
2022-04-02
PVD真空镀膜原理是什么？
PVD即物理气相沉积，是当前国际上具有广泛研究应用的先进的表面进行处理信息技术。在真空条件下，工作原理是气体或蒸发物质通过气体放电部分解离，在气体离子或蒸发物质离子轰击的同时，蒸发物质或其反应物沉积在衬底...
2022-04-02
电子束蒸发是什么?
各种行业都使用高真空室系统将材料(如绝缘体或金属)薄膜沉积到基片上。生产这些薄膜的工艺包括物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)。物理气相沉积工艺是制造耐极端温度和腐蚀的刚性薄膜的理想方法。 薄膜的三种主...
2021-12-24
真空镀膜加工过程中为什么要检测厚度
精密光学镀膜加工应用需要薄膜涂层来满足对折射率、光损耗、厚度、光传输和均匀性等因素的非常严格的规范。为此，真空镀膜加工商需要一个配备原位控制的全精密光学镀膜系统，该系统可直接监控光学特性。 对性能...
2021-12-17
什么情况下需要升级真空镀膜系统
升级真空镀膜系统可带来许多好处，而且无需投资购买全新设备。这种方法提供了一种经济高效的方式来降低拥有成本、提高流程能力并减少维护和停机时间。升级薄膜沉积配置的能力在很大程度上取决于特定的涂层系统、应用和工艺...
2021-12-16
为什么要不断改进真空镀膜加工技术
在真空镀膜加工时，想要超越以往，实现更好的涂层结果，那就要专注于长期目标，不断改进。一名合格的硬质涂层加工提供商，要具备持续改进镀膜系统的工程能力，这样他的合作伙伴才能在随着时间的推移中，一直得到可靠性、功...
2021-12-10
医疗器械薄膜涂层的厚度均匀性如何提高
医疗设备通常需要薄膜涂层来优化性能和使用寿命，同时确保患者安全。由于与“普通”基板相比，这些设备通常具有独特的特性，例如完全弯曲或灵活的结构，因此它们具有挑战性的薄膜沉积工艺要求。 带有倒置圆柱形阴极的磁控...