PACVD涂层技术

PACVD涂层技术（等离子辅助化学气相沉积）是一种基于真空的工艺，用于沉积DLC（类金刚石）涂层，也称为 ADLC（非晶类金刚石）。PACVD涂层技术的所有离析物都是气态的。这使其适用于均匀涂覆立体的镀件，而无需像 PVD ​​那样需要旋转。涂层在结构上是无定形的，并且包含大约 70% 的sp³黏结，这说明了涂层的高硬度 (10-40 GPa)。PACVD 工艺用于在低于 200 °C 的温度下镀制范围非常广泛的导电和非导电薄膜。典型的厚度在 2 – 3 µm 的范围内。

DLC 类金刚石涂层在干燥或润滑不足的条件下具有出色的硬度、耐磨性和低摩擦性能。它们非常适用于发动机、机器和其他具有滑动和滚动运动的机械组件中的摩擦系统。无需任何后处理的完美表面光洁度使它们成为高精度注塑工具和装饰用途的理想选择。DLC 具有化学惰性和生物相容性，可用于医疗组件和植入物。

• 丰富的基材材料
• 高精度的基板不变形
• 无需后期处理操作
• 无需旋转即可均匀进行立体镀件镀膜
• 排放物、镀膜工艺过程和相关产物，均属于绿色环保